現(xiàn)在人們對于各方面的要求很多，尤其是在節(jié)能環(huán)保方面。多晶硅、單晶硅清洗用水就是針對于光伏產(chǎn)業(yè)，比如人們最為熟悉的太陽能系列產(chǎn)品，以下介紹幾種解決方案的工藝流程。

多晶硅、單晶硅清洗用水工藝流程

1、采用離子交換樹脂制備電子工業(yè)超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。

2、采用反滲透水處理與離子交換進行組合制備電子工業(yè)超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。

3、采用反滲透與電去離子(EDI)進行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為：原?span style="margin: 0px; padding: 0px; max-width: 100%; box-sizing: border-box !important; word-wrap: break-word !important;">→原水箱→原水泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。

 多晶硅、單晶硅清洗用水工藝比較

目前制備電子工業(yè)用超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎上進行不同組合搭配衍生而來?，F(xiàn)將他們的優(yōu)缺點分別列于下面：

1、第一種采用離子交換樹脂其優(yōu)點在于初投資少，占用的地方少，但缺點就是需要經(jīng)常進行離子再生，耗費大量酸堿，而且對環(huán)境有一定的破壞。

2、第二種采用反滲透作為預處理再配上離子交換，其特點為初投次比采用離子交換樹脂方式要高，但離子再生周期相對要長，耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。但對環(huán)境還是有一定的破壞性。

3、第三種采用反滲透作預處理再配上電去離子(EDI)裝置，這是目前制取超純水最經(jīng)濟，最環(huán)保用來制取超純水的工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續(xù)制取超純水，對環(huán)境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式稍貴一點。

多晶硅、單晶硅清洗用水解決方案技術(shù)特點

1、超純水專用膜

    采用膜表面高分子嫁接技術(shù)，產(chǎn)水TOC在20PPB以下，更適用電子級超純水系統(tǒng)。

    高TOC脫除率、高抗污染能力、低TOC溶出率，TOC達標沖洗時間短、先進配套電源技術(shù)，能耗更低。

2、電去離子技術(shù)

    離子交換樹脂再生不需要使用昂貴且有危害的化學品，降低了能源和運行費用、設施的大小要求。

    采用新型均勻樹脂包填充，有效提高脫鹽率。

多晶硅_單晶硅清洗用水解決方案執(zhí)行標準

出水水質(zhì)符合：

1、ASTM-D5127-2007《美國電子學和半導體工業(yè)用超純水標準》

2、歐盟電子級超純水標準

3、中國電子工業(yè)國家標準